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X熒光鍍層膜厚測厚儀

簡要描述:

X熒光鍍層膜厚測厚儀測量已成為金屬加工工業(yè)進行成品質(zhì)量檢測*的重要的工序,目前國內(nèi)外已普遍按統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)測定涂鍍層厚度,《中華人民共和國計量法》對x熒光鍍層膜厚測厚儀測量厚度也提出了技術(shù)要求。膜厚儀的選擇隨著材料物理性質(zhì)研究方面的逐漸進步而更加至關(guān)重要。

覆層的厚度測量已成為金屬加工工業(yè)進行成品質(zhì)量檢測*的重要的工序,目前國內(nèi)外已普遍按統(tǒng)一的國際標(biāo)準(zhǔn)測定涂鍍層厚度,《中華人民共和國計量法》對x熒光鍍層膜厚測厚儀測量厚度也提出了技術(shù)要求。膜厚儀的選擇隨著材料物理性質(zhì)研究方面的逐漸進步而更加至關(guān)重要。

影響膜厚儀準(zhǔn)確度的因素有以下幾種:

1.曲率:不應(yīng)在試件的彎曲表面上測量。

2.讀數(shù)次數(shù):通常由于x熒光鍍層膜厚測厚儀的每次讀數(shù)并不*相同,因此必須在每一測量面積內(nèi)取幾個讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異,也要求在任一給定的面積內(nèi)進行多次測量,表面粗造時更應(yīng)如此。

3.基體金屬特性:對于磁性方法,標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度,應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙4.度相似;對于渦流方法,標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì),應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

5.表面清潔度:測量前,應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì),如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等,但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。

6.基體金屬厚度:檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度,無損檢測資源網(wǎng)如果沒有,可采用其他方法進行校準(zhǔn)。

7.邊緣效應(yīng):不應(yīng)在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進行測量。

 

X熒光鍍層膜厚測厚儀性能特點

 

滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求

φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測試點的需求

高精度移動平臺可定位測試點,重復(fù)定位精度小于0.005mm

采用高度定位激光,可自動定位測試高度

定位激光確定定位光斑,確保測試點與光斑對齊

鼠標(biāo)可控制移動平臺,鼠標(biāo)點擊的位置就是被測點

高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)

良好的射線屏蔽作用

測試口高度敏感性傳感器保護

 

X熒光鍍層膜厚測厚儀技術(shù)指標(biāo)

 

型號:Thick 800A

元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。

同時可以分析30種以上元素,五層鍍層。

分析含量一般為ppm到99.9% 。

鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

任意多個可選擇的分析和識別模型。

相互獨立的基體效應(yīng)校正模型。

多變量非線性回收程序

度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。

外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm

樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm

重量:90kg

 

標(biāo)準(zhǔn)配置

 

開放式樣品腔。

精密二維移動樣品平臺,探測器和X光管上下可動,實現(xiàn)三維移動。

雙激光定位裝置。

鉛玻璃屏蔽罩。

Si-Pin探測器。

信號檢測電子電路。

高低壓電源。

X光管。

高度傳感器

保護傳感器

計算機及噴墨打印機

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