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金屬光譜分析儀OES1000

簡(jiǎn)要描述:

金屬光譜分析儀OES1000主要測(cè)試金屬中的元素含量(碳、硅、錳、磷、硫、鎳、鉻、鉬、釩、鈦等),金屬成份決定了本身的性能及牌號(hào),所以對(duì)一個(gè)生產(chǎn)合金的企業(yè),把握好金屬的成份尤為關(guān)鍵,特別是作為爐前分析,能快速準(zhǔn)確的分析出金屬的成份,大大的降低了能耗,金屬光譜分析儀作為目前普遍也是端的檢測(cè)手段,得到了廣泛的應(yīng)用。

產(chǎn)品介紹

 

金屬光譜分析儀主要測(cè)試金屬中的元素含量(碳、硅、錳、磷、硫、鎳、鉻、鉬、釩、鈦等),金屬成份決定了本身的性能及牌號(hào),所以對(duì)一個(gè)生產(chǎn)合金的企業(yè),把握好金屬的成份尤為關(guān)鍵,特別是作為爐前分析,能快速準(zhǔn)確的分析出金屬的成份,大大的降低了能耗,金屬光譜分析儀作為目前普遍也是端的檢測(cè)手段,得到了廣泛的應(yīng)用。

 

技術(shù)指標(biāo)

 

分光室設(shè)計(jì):帕邢-龍格裝置,1米焦距;根據(jù)測(cè)試需求分為真空型、非真空型兩種;特殊材質(zhì)鑄造,保證腔室形變小

多安裝通道:32

凹面光柵:刻線密度2160gr/mm,曲率半徑998.8mm;逆線色散率0.47nm/mm,波長(zhǎng)范圍170-463mm

狹縫寬度:入射狹縫20μm;出射狹縫35-75μm

光電倍增管:10級(jí)側(cè)窗型,熔融石英或玻璃外殼

分辨率:依出射譜線波長(zhǎng)和級(jí)次而不同

金屬光譜分析時(shí)間:依樣品種類而不同,一般少于50

激發(fā)光源:高壓火花放電,放電頻率200400Hz,電極間距3-4mm

測(cè)光方式:分段積分法

控制系統(tǒng):采用FPGA技術(shù)控制儀器工作狀態(tài)

 

性能優(yōu)勢(shì)

 

儀器全年工作,具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可靠性

可在約50秒內(nèi)同時(shí)分析32個(gè)通道

單一分光室,方便保養(yǎng)、維護(hù)

原廠分析程序,可校正集體效應(yīng)和譜線干擾

使用認(rèn)證標(biāo)樣來標(biāo)定和標(biāo)準(zhǔn)化工作曲線,保證分析的準(zhǔn)確度

光源設(shè)計(jì)緊湊,有效降低電磁干擾,改善儀器穩(wěn)定性

高質(zhì)量的真空光學(xué)系統(tǒng)

高質(zhì)量的恒溫和防震性能

 

應(yīng)用領(lǐng)域

 

金屬光譜分析儀廣泛應(yīng)用于鑄造、鋼鐵、機(jī)械加工、航空工業(yè)、軍工等企業(yè),同時(shí)作為企業(yè)對(duì)來料的控制也是一個(gè)有效的手段。

 

廠家介紹

 

天瑞儀器是國(guó)內(nèi)金屬光譜分析儀生產(chǎn)廠家,分析儀器上市企業(yè),產(chǎn)品質(zhì)量、售后服務(wù)、價(jià)格等都有的優(yōu)勢(shì)。

 

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